刻蚀技术专利分析报告

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简述信息一览：

• 1、华为公开封装结构专利,可解决显示面板黑斑问题
• 2、哪一巨头坐拥1016件专利,从65nm升级到5nm?
• 3、和“光刻机”同样重要的“刻蚀机”是怎样造出来的?
• 4、什么是湿法刻蚀
• 5、中国十大芯片概念龙头公司(附名单)?
• 6、60岁创办中微半导体!自研出首台5nm刻蚀机,确立了技术地位领先

华为公开封装结构专利,可解决显示面板黑斑问题

1、月4日消息，昨日，华为技术有限公司公开了“一种显示面板封装结构”专利，公开号为CN215008275U。企查查专利摘要显示，该申请实施例提供了一种显示面板封装结构。

2、目前看功能都还是正常的测试一下功能显示相机没问题。基本设置都还是完好的屏幕是废掉了的所以基本可以拆除了。

3、第五，软件问题：可能性较小，这种情况一般发生在固件升级或者壁纸更换之后，屏幕显示异常跟硬件没有关系。

哪一巨头坐拥1016件专利,从65nm升级到5nm?

这位中国科技巨头就是中微半导体，并不是1016件专利，而是1142项刻蚀机 专利。从65nm升级到5nm，刻蚀机的纳米精度越高，刻蚀的效果就越好。

从超频的角度看，处理器升级步进的同时一半也会升级其超频能力，这其实是制造工艺的功劳。 步进升级成效之一：超频能力有提高 在处理器的架构没有发生重大变化的前提下，制程升级可以大幅度提高处理器的超频能力，最典型的例子就是90nm的Prescott Pentium4升级到65nm的CedarMill 核心的Pentium4。

和“光刻机”同样重要的“刻蚀机”是怎样造出来的?

刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。光刻是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。

当然可以。光刻机是一种用于制造微电子设备的特殊设备，其工作原理主要是将集成电路模板放置在光线投射的硅片上，利用光学透镜和反射镜的原理，将电路图案缩小，并利用化学蚀刻或物理刻蚀的方法将图案转移到硅片上。

工作原理 如果把制造芯片比喻成盖房子，那么光刻机的作用就是把房子的结构标注在地上。刻蚀机就是在光刻完成以后才登场的设备，也是光刻完成以后最为重要的设备之一。刻蚀机最主要的作用就是按照光刻机已经标注好的线去做基础建设，把不需要的地方给清除掉，只留下光刻过程中标注好的线路。

其中，光刻是最复杂，最关键，最昂贵和最耗时的环节。刻蚀的成本仅次于光刻，其重要性正在提高。薄膜沉积也是必不可少的重要过程。为了实现大型集成电路的分层结构，需要重复沉积-蚀刻-沉积的过程。

光束透过掩模，经过物镜补偿光学误差后，将图案缩小映射到硅片上的光刻胶层。随后，通过化学显影方法，将图案固定在硅片上，形成电路图。光刻工艺通常包括硅片清洗、涂覆光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等多个步骤。复杂的芯片制造过程可能需要多次涂胶和曝光，以及更精细的曝光控制。

什么是湿法刻蚀

1、湿法刻蚀 这是传统的刻蚀方法。把硅片浸泡在一定的化学试剂或试剂溶液中，使没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜表面与试剂发生化学反应而被除去。例如，用一种含有氢氟酸的溶液刻蚀二氧化硅薄膜，用磷酸刻蚀铝薄膜等。

2、微细加工技术中的刻蚀工艺可分为干法刻蚀与湿法刻蚀。干法刻蚀主要利用反应气体与等离子体进行刻蚀。湿法刻蚀是一种刻蚀方法，是将刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术。

3、湿法刻蚀是通过化学刻蚀液和被刻蚀物质之间的化学反应将被刻蚀物质剥离下来的刻蚀方法。大多数湿法刻蚀是不容易控制的各向同性刻蚀。特点：适应性强，表面均匀性好、对硅片损伤少，几乎适用于所有的金属、玻璃、塑料等材料。缺点：图形刻蚀保真想过不理想，刻蚀图形的最小线难以掌控。

中国十大芯片概念龙头公司(附名单)?

1、子公司安世集团持有安世半导体全部股份，安世半导体是中国目前拥有完整芯片设计、晶圆制造、封装测试的大型垂直半导体企业。

2、圣邦股份：圣邦股份是一家专注于高性能模拟集成电路的研发和销售的公司，主要产品包括电源管理芯片、信号链芯片等。芯原微电子：芯原微电子是一家提供芯片定制设计和半导体解决方案的公司，主要产品包括***处理芯片、MCU芯片等。

3、国内芯片龙头公司有哪些 中国十大芯片企业是：紫光集团、华为海思、长电科技、中芯国际、太极实业、中环股份、振华科技、纳斯达、中兴微电、华天科技。其中比较靠前的是紫光集团、华为海思。 目前，紫光集团、华为海思两家公司在不少领域已是世界领先水平，但一个巨大的问题是，其架构授权的核心都被外人掌握。

4、题材概念：第三代半导体概念 主营业务：LED外延片及芯片的研发、生产和销售。

5、十大科技龙头名单 卓胜微。 兆易创新。 隆基股份。 比亚迪。 阳光电源。 汇川技术。 闻泰科技。 汇顶科技。 韦尔股份。 立讯精密。

60岁创办中微半导体!自研出首台5nm刻蚀机,确立了技术地位领先

随着中微半导体的创新技术不断产出，在一段时间当中，中微半导体毅然遭到了美国技术的封锁，直到2015年期间，美国才放弃对中微半导体公司的技术封锁。中微半导体成立的第11年，中微半导体再次自研出首台最先进的5nm刻蚀机，自此，中国的5nm蚀刻机在全球确立了5nm刻蚀机技术的地位领先。

经过多年的试验，在尹志尧的带领下，这些专家们还真的生产出了只属于中国专利的半导体专利，尤其是在刻蚀机这一块，中微半导体研发的刻蚀机，竟实现了在米粒上刻1亿个字到十亿个字的突破，完完全全突破了国外刻蚀机的技术垄断。

说起尹志尧大家并不熟悉，但相比大家对于国产刻蚀机并不陌生，大家对于华为手机所使用的麒麟芯片并不陌生，而以上这些便和尹志尧有着难以割开的联系。尹志尧作为半导体材料方面的专家，在美国微软以及lam研究所工作了十几年，但他在年近60的时候突然选择了回国，这其中有很多方面的原因。

对此美国也迅速做出了行动，妄图阻止中微公司的继续发展。但中微公司做到了蚍蜉撼大树，不仅躲过了美国的打击，还超过了美国当前的发展。2017年4月，中微公司正式宣布掌握5nm技术，还将发布5nm刻蚀机。这一宣布也昭示着我国在纳米科技上突破了美国的垄断，走上了半导体的科技顶峰。

其等离子体刻蚀设备已成功应用于国际一线客户从65nm到5nm的高端集成电路制造，彰显了技术实力。MOCVD设备也实现了大规模量产，中微半导体在国内氮化镓基LED设备市场中占据领先地位。

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